GR5 티타늄 타겟재료는 적절한 공정 조건에서 마그네트론 스퍼터링, 다중 아크 이온 도금 또는 기타 유형의 코팅 장비에 의해 기판에 다양한 기능 필름을 형성하는 스퍼터링 소스를 말합니다. 스퍼터링 타겟은 장식, 금형, 유리, 전자 장치, 반도체, 자기 기록, 평면 디스플레이, 태양 전지 및 기타 여러 분야에서 널리 사용됩니다.

타겟 물질의 순도는 박막 성능에 큰 영향을 미치기 때문에 순도는 타겟 물질의 주요 성능 지표 중 하나입니다.

다른 대상 물질은 다른 조건에서 다른 불순물 함량에 대한 요구 사항이 다릅니다.

일반적으로 대상 물질은 미크론에서 밀리미터에 이르는 입자 크기를 갖는 다결정질입니다. 동일한 타겟의 경우 미세 입자가 있는 타겟의 스퍼터링 속도는 입자가 굵은 타겟의 스퍼터링 속도보다 빠릅니다. 작은 입자 크기 차이(균일한 분포)로 타겟 스퍼터링에 의해 증착된 박막은 보다 균일한 두께 분포를 갖습니다.

티타늄 스퍼터링 타겟 공급업체

High Purity Titanium Sputtering Target 고순도 티타늄 스퍼터링 타겟