반도체 습식 처리용 1um 다공성 티타늄 필터 카트리지는 폴리머 멤브레인이 부풀어 오르거나 분해되는 공격적인 화학 환경에서 절대{1}}정격 입자 유지 기능을 제공합니다. 냉간 등압 성형 및 고온 진공 소결을 통해 99.4% 이상의 산업용 고{4}}순도 티타늄 분말로 제작된 이 금속 분말 소결 필터는 30-40% 범위의 다공성과 좁은 기공 크기 분포를 갖춘 균일한 미세 다공성 구조를 달성합니다. API 의약품 생산 탈탄소화 여과에서 1μm 소결 티타늄 막대 필터는 재사용 가능한 역세 기능을 통해 멤브레인 대안보다 서비스 수명을 몇 배 연장하는 고점도 모액에서 미세한 활성탄 잔류물과 촉매 미세분을 포착합니다. 습식-공정 반도체 제조에서는 SC-1, SC-2, 49% HF 및 HNO₃ 흐름을 위한 화학 물질 공급 라인에 1um 티타늄 분말 소결 필터를 통합합니다. 여기서 티타늄 기판은 스테인리스 스틸 등급을 부식시키는 염화물이 풍부한 환경에서 발생하는 구멍에 저항합니다. 1um 정밀도 등급은 입자를 흘리지 않고 서브미크론 실리콘 함유 미립자와 금속 오염 물질을 제거하여 나노미터 규모 웨이퍼 처리에 필요한 여과액 순도를 유지합니다.

1um Porous Titanium Filter Cartridge for Semiconductor Wet Processing 2

고순도-수처리 루프 애플리케이션은 한외여과 및 EDI 시스템에 앞서 최종 보안 여과로 반도체 습식 처리용 1um 다공성 티타늄 필터 카트리지를 배포합니다. 여기서 티타늄 분말 소결 요소는 주기적인 오존 살균 및 습한 조건에서 최대 280도까지 증기-동시-사이클을 견딥니다. 열 순환 시 부드러워지거나 박리되는 폴리프로필렌 심층 필터 또는 PTFE 멤브레인 카트리지와 달리, 진공-소결 티타늄 매트릭스는 pH 1{11}}14 범위 전체에서 치수 무결성을 유지하고 기공 구조 붕괴 없이 최대 5.0bar의 차압을 견딥니다. 고급 제조공장의 CMP 슬러리 연마 루프는 수지 흡착 단계 후 1μm 티타늄 필터 카트리지를 사용하여 콜로이드 실리카 또는 세리아 슬러리의 공학적 입자 크기 분포를 유지하면서 응집된 연마성 대형 입자를 트랩합니다. 비-입자 배출 특성과 백플러시 또는 초음파 세척을 통한 온라인 재생성 덕분에 반복적인 재사용이 가능하고 지속적인 반도체 습식 벤치 작업에서 필터 교체 빈도와 운영 비용이 절감됩니다.

제품 사양

재료	GR1 티타늄 분말
여과등급/기공크기	1um
지름	80mm
길이	500mm
연결	M30
기술	소결

제품특징

1um Porous Titanium Filter Cartridge for Semiconductor Wet Processing 6

정밀 여과 등급 – 1um 다공성 티타늄 필터 카트리지는 반도체 습식 공정 라인에서 절대-정격 입자 유지 기능을 제공하여 매체 누출 없이 HF, HNO₃, SC-1 및 SC-2를 포함한 공격적인 화학 물질에서 미크론 이하의 실리콘 잔류물, 금속 오염 물질 및 젤{2}}입자를 제거합니다.

극한 pH 범위에서의 부식 방지 – 진공 소결을 통해 99.4% 이상의 고순도 티타늄 분말로 제조된 이 소결 티타늄 필터 카트리지는 pH 1~14 환경을 견디며 습식 벤치 화학 물질 분배 시스템에서 스테인레스 스틸 또는 하스텔로이 필터를 빠르게 분해하는 구멍 및 염화물 공격에 저항합니다.

고온 DIW 및 SIP 사이클을 위한 높은 열 안정성 – 티타늄 분말 소결 필터는 습한 조건에서 280도에서 연속 작동을 견디며 폴리프로필렌 또는 PTFE 멤브레인 카트리지에 일반적으로 발생하는 추출물을 연화, 박리 또는 침출시키지 않고 SIP(Steam) 멸균 및 고온 탈이온수 린스를 지원합니다.

No particle shedding – Unlike depth filters or wound cartridges, the rigid sintered metal structure eliminates fiber release or media migration, maintaining ultrapure filtrate essential for nanometer-scale wafer fabrication where any foreign particle >0.5μm는 치명적인 장치 결함을 유발합니다.

탁월한 역세 재생성 – 1um 다공성 티타늄 필터 카트리지는 온라인 역세척, 초음파 세척 및 산 재생을 지원하여 수십 번의 재사용 주기에 걸쳐 포집된 고형물을 제거하고 초기 유속을 복원하여 대용량 제조 공장에서 카트리지 교체 빈도와 운영 비용을 크게 줄입니다.-

높은 차압 내성 – 진공-소결 티타늄 매트릭스는 최대 5.0bar의 차압에서도 기공 구조 무결성을 유지하여 반도체 습식 처리 장비의 서지 흐름 또는 막힘 현상 중에 붕괴되거나 파열되는 멤브레인 필터보다 성능이 뛰어납니다.

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제품 응용

웨이퍼 공장의 고순도{0}}화학물질 분배 라인 – 49% HF, HNO₃, NH₄OH, H2SO₄ 및 HCl 스트림용 POU(사용 시점) 필터 하우징에 설치되는 1um 소결 티타늄 필터 카트리지는 습식 벤치 및 단일 웨이퍼 프로세서 이전에 미크론 이하의 금속 미립자와 실리콘 먼지를 제거합니다.{5}}

오존 탈이온수(DIO₃) 재순환 루프 – CMP 후 세척 및 포토레지스트 제거 도구의 보안 여과로 적용됩니다.- 1um 다공성 티타늄 카트리지는 최대 20ppm의 오존 농도와 지속적인 UV 노출을 방지합니다. 이때 폴리프로필렌 필터는 부서지기 쉽고 PTFE 멤브레인은 기계적 무결성을 잃습니다.

CMP slurry polishing loops – final polish and bulk removal – Positioned after slurry blending tanks and before dispense arms for colloidal silica, ceria, or alumina slurries. The sintered titanium filter traps over-sized agglomerates (>1um) 기본 입자 크기 분포와 제타 전위를 유지하면서 일관된 제거율과 -웨이퍼 비-균일성(WIWNU) 내를 유지합니다.

포스트-CMP 브러시 박스 스크러버 물 여과 – PVA 브러시에 공급되는 탈이온수 라인에 설치되어 웨이퍼 연마 후 잔류 연마 입자와 구리 이온을 다시 포착합니다. 1um 절대 정격은 브러시 접촉 중에 구리 및 낮은-k 유전체 표면의 미세 스크래치를 방지합니다.

초순수(UPW) 연마 루프 최종 보안 필터 – 습식 식각 및 린스 스테이션의 POU(사용 지점) 밸브 앞에 위치합니다. 티타늄 분말 필터 카트리지는 입자를 흘리지 않고 뜨거운 UPW(80도) 및 주기적인 증기 멸균 주기에서 작동하여 박테리아 제어 및 클래스 1 요구 사항 미만의 입자 수를 유지합니다.

배리어/시드층용 무전해 니켈 및 코발트 도금조 – 도금조 정화 스키드에 통합되어 안정제 및 착화제에서 미립자 오염물을 제거합니다. 내부식성-티타늄 매트릭스는 높은 온도(70~90도)와 알칼리성 pH에서 수소 취성이나 용액 오염 없이 작동합니다.