제품
VCR 1/2" 인터페이스가 있는 5 미크론 스테인레스 스틸 분말 필터 카트리지
크기: Φ40*196.3mm
필터 정밀도: 5미크론
인터페이스: VCR1/2"
VCR 1/2" 인터페이스가 있는 스테인레스 스틸 분말 필터 카트리지는 반도체 제조에서 중요한 구성 요소로, 고순도 가스 분배 시스템용으로 특별히 설계되었습니다.{2}} 이러한 필터 카트리지는 고급 금속 분말 소결 기술을 활용하여 정밀한 여과를 달성하고 5미크론만큼 작은 입자를 효과적으로 포집합니다. 이는 민감한 반도체 제조 공정의 무결성을 유지하는 데 필수적인 매우 깨끗한 공정 가스의 전달을 보장합니다. VCR 1/2" 인터페이스는 누출{10}}방지 기능을 제공합니다. 금속-대-금속 밀봉으로 미세한 가스 불순물이라도 마이크로 전자 장치에 심각한 결함을 초래할 수 있는 반도체 환경의 엄격한 요구 사항을 충족합니다. 내부식성-스테인리스강으로 제작된 견고한 구조는 극한의 조건에서도 내구성과 장기적인-신뢰성을 보장합니다.
반도체 응용 분야에서 이러한 필터 카트리지는 질량 유량 컨트롤러 및 정밀 밸브와 같은 다운스트림 장비를 미립자 오염으로부터 보호하는 데 중요한 역할을 합니다. 기존 고순도 가스 라인에 원활하게 통합되어-시스템 가동 중지 시간을 최소화하면서 설치 및 유지 관리를 단순화합니다. 높은 여과 효율성, 탁월한 내화학성, 안정적인 밀봉이 결합되어 첨단 반도체 생산 시설에서 일관된 가스 순도와 운영 효율성을 보장하는 데 없어서는 안 될 요소입니다.
제품 사양

자료: 316L 분말
크기: Φ40*196.3mm
필터 정밀도: 5미크론
인터페이스: VCR1/2"
기술: 소결
제품특징

1. 초고순도 및 입자 유지력
- 소결 스테인리스강 구조(일반적으로 316L)는 결합제, 접착제 또는 유기 잔류물이 없는 깨끗한 순금속 여과 매체를 제공합니다.
- 0.5μm까지 미크론 미만의 입자를 보유할 수 있어 미세 오염이 공정 챔버나 웨이퍼에 도달하는 것을 방지합니다.
- 입자 이탈이 없어 장기간 사용 시에도 안정적인 입자 수를 보장합니다.
2. 견고한 기계적 및 열적 안정성
- 풀메탈 디자인으로 고압, 고온, 잦은 열 주기를 견딜 수 있습니다.
- 가스 분배 시스템에서 흔히 발생하는 진동, 역류 또는 압력 펄스-조건 하에서 기계적 무결성을 유지합니다.
- 고온 가스 라인용 히트 트레이싱과 호환됩니다.

3. 재생성 및 재생성
- 필터 요소는 역세척, 초음파 세척 또는 진공 베이킹이 가능하므로 폴리머 또는 세라믹 필터에 비해 수명이 깁니다.
- 일반적인 수명 주기는 일회용 PTFE 또는 PVDF 필터의 5~10배로 연장되어 가동 중지 시간과 총 소유 비용을 최소화합니다.
4. 화학적 호환성 및 내식성
- 316L 스테인리스강은 염화물, 불소, 암모니아 및 산성 가스 환경에서 수동 산화막을 유지합니다.
- 비반응성 표면은 금속 이온 추출이나 가스 조성 변화를 방지합니다.
애플리케이션
1. UHP 가스 유통 라인
- 대량 가스 전달 스키드, 가스 캐비닛 및 VMB/VMP 패널에 설치되어 가스가 MFC 또는 공정 도구에 들어가기 전에 입자를 걸러냅니다.
- 중요한 공정에 공급되는 N2, Ar, H2, He, O2, NH₃, CF₄ 및 기타 고순도 가스 라인에 사용됩니다.
2. 질량유량제어기(MFC) 입구 보호
- 정밀 질량 유량 컨트롤러의 입자 오염 및 밸브 마모를 방지합니다.
- MFC의 장기적인 흐름 안정성과 교정 일관성을 개선합니다.
3. 프로세스 챔버 및 도구 가스 흡입구
- CVD, ALD, 식각 및 확산로에 입자와 습기가 없는 전달을 보장합니다.
- 순도가 필름 품질과 수율에 중요한 SiH₄, WF₆, BCl₃, PH₃ 및 TEOS 라인에 사용됩니다.
4. 특수 가스 및 전구체 시스템
- 화학적 불활성 및 온도 안정성이 중요한 금속 유기 또는 할로겐 기반 가스의 경우.
- 응축된 입자나 물방울을 포착하기 위해 기화기나 버블러 뒤에 배치되는 경우가 많습니다.
문의하기
전화: 0917-3873009
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